據(jù)了解，本次晶洲下線的堿拋刻蝕清洗設(shè)備采用單槽6花籃設(shè)計(jì)，每小時(shí)產(chǎn)能14400片，極大改善了鏈?zhǔn)饺SG或PSG+堿拋設(shè)備工序的產(chǎn)能瓶頸;該設(shè)備采用多項(xiàng)晶洲自主研發(fā)的獨(dú)創(chuàng)設(shè)計(jì)，在提升設(shè)備產(chǎn)能的同時(shí)，降低設(shè)備單耗、能耗，提升工藝穩(wěn)定性。

獨(dú)創(chuàng)的防帶液串槽設(shè)計(jì)：采用新型槽體結(jié)構(gòu)，工藝兼容性強(qiáng)，可收集花籃70%的帶液量，最大程度減少不同的藥水串槽，避免藥水交叉污染，降低單耗，提升藥水使用壽命，在清洗能力、潔凈度、工藝穩(wěn)定性方面表現(xiàn)非常優(yōu)秀。

獨(dú)創(chuàng)的槽體循環(huán)設(shè)計(jì)：行業(yè)獨(dú)創(chuàng)V型底板，更有利于徹底排空廢液，提升槽體換液潔凈度，提升藥水壽命。反應(yīng)槽采用第三代分布式盤管循環(huán)系統(tǒng)，使藥水循環(huán)快速平穩(wěn)，減少槽體上、中、下三層液面溫差，改善了因循環(huán)和劇烈反應(yīng)導(dǎo)致的花籃出片現(xiàn)象，大幅度降低大尺寸硅片的粘片概率，在硅片外觀、減重和反射率的均勻性方面表現(xiàn)優(yōu)異。

晶洲裝備是中國(guó)高端濕制程裝備及工藝技術(shù)綜合解決方案提供商，業(yè)務(wù)涉及太陽(yáng)能光伏、平板顯示、半導(dǎo)體等多個(gè)領(lǐng)域。公司自2018年開(kāi)始布局TOPCon電池濕法工藝設(shè)備，2021年在TOPCon電池濕法領(lǐng)域全面突破，實(shí)現(xiàn)批量交付并通過(guò)驗(yàn)證，已交付設(shè)備涵蓋制絨清洗機(jī)、去BSP清洗機(jī)、去PSG清洗機(jī)、堿拋刻蝕清洗機(jī)、去繞度RCA清洗機(jī)等濕法主工藝設(shè)備。